低溫恒溫循環(huán)器特點及使用說明，低溫恒溫循環(huán)器又稱之為低溫恒溫反應浴。常應用于對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。并且對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等起到很大作用。

低溫恒溫循環(huán)器使用說明：

1.根據(jù)大空間制冷原理，采用全新改進蒸發(fā)器，降溫更迅速、溫度更均勻；

2.全新設計的專業(yè)電路，PID輸出，控溫更準；

3.功能鍵均采用觸摸軟鍵；

4.溫度、時間數(shù)顯；

5.預約開機，延時關機；

6.具備超溫、差溫報警功能；

7.采用風冷式全封閉壓縮機組，進口壓縮機，制冷量大；

8.可在工作槽內(nèi)進行低溫實驗或?qū)⒉蹆?nèi)冷液外引，冷卻機外實驗器。

低溫恒溫循環(huán)器主要特點

1.風冷式全封閉制冷壓縮機,降溫速度快。

2.微機智能控制,溫度溫度。

3.數(shù)顯分辨率0.1℃或0.01℃，具有溫度測量值偏差修正功能。

4.溫度超溫保護,自動切斷電源并報警。

5.制冷系統(tǒng)過熱、過流自動保護。

低溫恒溫循環(huán)器使用注意事項

1.避免酸堿類的物質(zhì)進入槽內(nèi)腐蝕盤管以及內(nèi)膽；

2.低溫冷卻液循環(huán)泵應安置于干燥通風處，儀器周圍300mm內(nèi)無障礙物；

3.經(jīng)常注意觀察槽內(nèi)液面高低，當液面過低時，應及時添加液體介質(zhì)；

4.當?shù)蜏乩鋮s液循環(huán)泵工作溫度較低時，應注意不要開啟上蓋，手勿進入槽內(nèi)，以防凍傷；

5.使用完畢，所有開關置于關閉狀態(tài)，切斷電源；

6.液體外循環(huán)時，客戶應特別注意引出管連接處的牢固性，嚴防脫落，以免液體漏出；

7.在使用低溫冷卻液循環(huán)泵之前在槽內(nèi)應加入液體介質(zhì)（純水，酒精，防凍液也可），介質(zhì)液面應沒過槽內(nèi)制冷盤管并低于工作臺20mm為宜；

8.儀器應做好經(jīng)常性清潔工作，長久不用，清空槽內(nèi)的介質(zhì)，并且擦拭干凈，保持工作臺面和操作面板的整潔；

9..電源：220V50Hz，電源功率應大于儀器的總功率，電源必須有良好“接地“裝置。

   低溫恒溫循環(huán)器是采取機械形式制冷的低溫液體循環(huán)設備，低溫恒溫槽具有提供低溫液體、低溫水浴的作用，結(jié)合旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器、真空冷凍干燥箱、循環(huán)水式多用真空泵，磁力攪拌等儀器，進行多功能低溫下的化學反應作業(yè)及藥物儲存。該設備特別適用于需要維持低溫、常溫條件下工作的化學、生物、物理實驗室，是醫(yī)藥衛(wèi)生、化學工業(yè)、食品工業(yè)、冶金工業(yè)、大專院校、科研、遺傳工程、高分子工程等實驗室設備。